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科(kē)研實力

RESEARCH STRENGTH

五合一團簇式鈣钛礦疊層真空鍍膜裝備

五合一團簇式鈣钛礦疊層真空鍍膜裝備整合了RPD、多(duō)源蒸鍍、RF濺射、脈沖直流濺射和直流濺射等多(duō)種技術，能(néng)夠在真空環境中連續沉積各種薄膜，包括TCO（ITO、IWO、ICO、IZO）、Cu、SnO2和NiO等，同時保持界面間的優良特性，為(wèi)材料科(kē)學(xué)、電(diàn)子工程和光電(diàn)子學(xué)等領域的研究提供了一個強大的裝備支撐。
雙面卷繞銅箔濺射鍍膜設備

此款鍍銅真空設備采用(yòng)自主研發的卷繞控制系統，展平效果更佳，已穩定運行2萬米，且未有(yǒu)斷膜和褶皺的情形。同時，公司采用(yòng)模塊化的設計組合，創新(xīn)性隔離閘閥設計，實現不破真空快速換卷，提高生産效率，實現複合銅箔生産的降本增效。
RPD5500A

公司自主研發RPD5500A在原有(yǒu)技術基礎上采用(yòng)半導體(tǐ)平闆顯示行業加熱、冷井等多(duō)種前沿核心技術，開發了多(duō)種複合工藝組合設計，尤其是通過巧妙的結構設計擴大入光面的受光面積而獲得基于166尺寸電(diàn)池片的高效增益。
制絨Plus系列設備

制絨Plus系列設備在保持現有(yǒu)高産能(néng)的基礎上，導入最新(xīn)技術，同時升級設備結構及生産工藝，進一步改善電(diàn)池表面微觀結構，提升矽片表面潔淨度，降低表面污染，從而提升電(diàn)池轉化效率，這是公司在光伏濕法設備領域重要技術突破的又(yòu)一裏程碑。
HJT闆式PECVD設備

公司HJT闆式PECVD采用(yòng)鏈式I-IN-P結構組合并搭配自動化整體(tǐ)解決方案，同時采用(yòng)大面積載闆設計，可(kě)實現單面或雙面微晶工藝，助力HJT電(diàn)池25%+量産平均轉化效率目标的實現，進一步提升公司在HJT電(diàn)池設備領域的競争力。